सिलिकॉन ऑक्साइड खनिजों के साथ धात्विक सिलिकॉन को गलाने की प्रक्रिया एक स्लैग मुक्त प्रक्रिया है

रासायनिक सिलिकॉन गलाने के लिए सिलिका के सख्त चयन की आवश्यकता होती है, जिसके लिए न केवल कम अशुद्धता सामग्री की आवश्यकता होती है, बल्कि उच्च यांत्रिक शक्ति, पर्याप्त थर्मल स्थिरता और उचित कण आकार संरचना की भी आवश्यकता होती है। रासायनिक सिलिकॉन गलाने के लिए सिलिका का उपयोग करना सबसे अच्छा है। सिलिका के प्राकृतिक रूप या तो स्वतंत्र क्वार्ट्ज खनिजों के रूप में मौजूद हैं, या लगभग पूरी तरह से सिलिका - सिलिका से बनी चट्टानों के रूप में, या सिलिका के रूप में बलुआ पत्थर के रूप में मौजूद हैं। रासायनिक सिलिकॉन के उत्पादन में उपयोग किए जाने वाले सिलिकॉन ऑक्साइड खनिजों में अशुद्धियाँ और चिपकने वाले पदार्थ पूरी तरह से कम हो जाते हैं, आंशिक रूप से कम हो जाते हैं, और कुछ यौगिकों के रूप में उत्पाद सिलिकॉन में प्रवेश करते हैं या गलाने की प्रक्रिया के दौरान स्लैग उत्पन्न करते हैं। इससे न केवल ऊर्जा की खपत बढ़ती है, उत्पाद की गुणवत्ता कम होती है, बल्कि गलाने की प्रक्रिया में भी कठिनाइयाँ पैदा होती हैं। इसलिए, रासायनिक सिलिकॉन गलाने में उपयोग किए जाने वाले खनिजों वाले सिलिका की रासायनिक संरचना पर सख्त आवश्यकताएं लगाई जाती हैं। SiO2 99 प्रतिशत से अधिक होना चाहिए, Fe2O3 0.15 प्रतिशत से कम होना चाहिए, Al2O3 0.2 प्रतिशत से अधिक नहीं होना चाहिए, CaO 0.1 से अधिक नहीं होना चाहिए प्रतिशत, और अशुद्धियों की कुल मात्रा 0.6 प्रतिशत से अधिक नहीं होनी चाहिए। उपयोग किए गए सिलिका को पिघलने से पहले पानी से धोया जाना चाहिए और सतह को साफ किया जाना चाहिए।
भट्ठी में प्रवेश करने वाले सिलिका को एक निश्चित कण आकार की आवश्यकता होती है। सिलिका का कण आकार गलाने में एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया कारक है। सिलिका का उपयुक्त कण आकार विभिन्न कारकों से प्रभावित होता है जैसे कि सिलिका का प्रकार, विद्युत भट्ठी, क्षमता, परिचालन की स्थिति, और कम करने वाले एजेंटों के प्रकार और कण आकार, और विशिष्ट गलाने की स्थितियों के आधार पर निर्धारित किया जाना चाहिए। सामान्य तौर पर, 6300KVA तीन-चरण विद्युत भट्टी (1983 में दाऊ सिलिकॉन प्लांट में पूरी हुई) के लिए 8-100मिमी के सिलिका कण आकार की आवश्यकता होती है, 3200KVA तीन-चरण विद्युत भट्टी के लिए 8-80मिमी के सिलिका कण आकार की आवश्यकता होती है, और मध्यवर्ती कण आकार संरचना का अनुपात बड़ा है। जब कण का आकार बहुत बड़ा होता है, तो चिपकने वाली सामग्री और रैमिंग भट्ठी की प्रतिक्रिया गति के अनुकूल होने में असमर्थता के कारण तरल सिलिकॉन में अप्रयुक्त सिलिका का प्रवेश करना आसान होता है, जिसके परिणामस्वरूप स्लैग की मात्रा में वृद्धि होती है, भट्ठी के निर्वहन में कठिनाई होती है , सिलिकॉन पुनर्प्राप्ति दर में कमी, ऊर्जा की खपत में वृद्धि, और यहां तक ​​कि भट्ठी के तल में वृद्धि, सामान्य उत्पादन को प्रभावित करती है। यदि कण का आकार बहुत छोटा है, हालांकि यह कम करने वाले एजेंट की संपर्क सतह को बढ़ा सकता है और कमी प्रतिक्रिया को सुविधाजनक बना सकता है, प्रतिक्रिया प्रक्रिया के दौरान उत्पन्न गैस को आसानी से छुट्टी नहीं दी जा सकती है, जिससे प्रतिक्रिया की गति धीमी हो जाएगी। अनाज घंटों गुजारता है। लाई गई अशुद्धियाँ फिर से बढ़ेंगी, जिससे उत्पाद की गुणवत्ता प्रभावित होगी। आमतौर पर 5 मिमी से छोटे सिलिका का उपयोग उत्पादन में नहीं किया जाना चाहिए।